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響應原子制造戰(zhàn)略,Forge Nano 領航粉末 ALD 新紀元!支持代包覆服務!

 更新時間:2025-03-17 點擊量:555

工業(yè)和信息化部在《原子級制造揭榜掛帥任務榜單》將“粉體原子級包覆技術與裝備"列為重點攻關方向,明確提出“到 2026 年實現 < 1nm 薄膜沉積、批處理能力 >10kg/批次"的目標,直指行業(yè)痛點。粉體原子層沉積(ALD)技術,憑借其原子級精度、三維均勻包覆與工藝可擴展性,成為破局關鍵。

 

 

 

PART.ONE  原子制造的變革:粉末原子層沉積(PALD)技術

 

當“原子制造"一詞被提起,仍會將其與半導體平面工藝緊密關聯(lián)——那些在硅片上精準堆疊的納米薄膜、為芯片性能賦能的原子級溝槽結構,似乎定義了原子制造的邊界。然而,在材料科學的多維世界中,一場更廣闊的革命正在發(fā)生:粉體原子層沉積技術(PALD),將原子級精度從平面拓展至三維粉體,為能源、化工、醫(yī)藥乃至航空航天領域開辟全新可能。

 

 

在原子級制造的浪潮中,粉體表面原子層沉積技術(PALD)因其精準的納米級涂層控制能力,成為能源、化工、電子及先進材料領域的核心技術。然而,如何實現批量化、高一致性的粉體原子級包覆,一直是行業(yè)亟待突破的難題。在“雙碳"目標驅動下,新能源、制造與綠色化工領域對材料性能的極限要求日益迫切——鋰電材料需要更穩(wěn)定的界面以延長壽命,催化劑追求更高的活性與抗燒結性,含能材料亟需致密鈍化層以保障安全……傳統(tǒng)包覆技術因均勻性差、厚度不可控等問題,已難以滿足這些需求。

 

左:理想的超薄致密涂層(ALD 實現);

中:非致密厚涂層;右:島狀不均勻包覆

 

Forge Nano 憑借領(ling)先的粉體 ALD 技術,以創(chuàng)新技術直擊痛點,為原子制造專項任務提供標(biaogan)桿級解決方案。

 

粉體 ALD 的創(chuàng)新核心,正是突破這一局限:

 

  • 三維包裹,均勻性:通過流化床、振動床等技術,使粉末顆粒在反應器中充分分散,前驅體分子可滲透至顆粒間隙甚至多孔結構內部,實現 360° 原子級包覆,解決傳統(tǒng)包覆技術的“陰影效應"。

     

  • 自限制反應,厚度精準可控:與平面 ALD 相同,粉體 ALD 通過自限制性半反應逐層生長,即使面對納米級凹凸表面,也能確保每層沉積厚度精確至亞納米級(<1nm),避免液相包覆的“島狀生長"或氣相沉積的“過厚堆積"。

     

  • 材料普適性,賦能全域場景:從鋰電正極材料、金屬催化劑到藥物顆粒,粉體 ALD 可兼容氧化物、氮化物、有機物等多種涂層,且工藝溫度范圍廣(常溫至 400℃),滿足熱敏感與高溫材料的雙重需求。

     

  • 大批量包覆,讓工藝放大成為可能:真正困擾工業(yè)界的是如何將實驗室量級擴展到工業(yè)應用,這需要從前端開發(fā)時就有匹配量級的設備及配方工藝。而粉體 ALD 設備有效解決了常規(guī)平面 ALD設備無法解決的放大問題。

 

使用 Forge Nano 粉體 ALD 技術在多種顆粒表面進行原子制造,包括進行功能性無機/有機涂層,界面改性,團簇負載等。

 

往期精選:一文了解粉末原子層沉積(PALD)技術及其實現方法

 

PART.TWO  從毫克到千噸:原子制造規(guī)模化

 

 

Prometheus XL 系統(tǒng):專為粉體原子制造而生

 

作為 Forge Nano 旗艦產品,Prometheus XL 系統(tǒng)專為大規(guī)模粉末 ALD 研發(fā)與中試設計,契合《原子級制造揭榜掛帥任務榜單》中“粉體原子級包覆技術與裝備"專項的核心需求。

 

 

  • 批量化處理能力:單次處理量達 1-20L(依粉末密度可達 10kg 以上),滿足“批處理能力>10kg/批次"的專項目標,助力客戶快速實現從實驗室到工業(yè)化的工藝放大。

  • 原子級精度控制:通過自限制性半反應機制,實現 <1nm 的薄膜厚度控制,確保涂層均勻無針孔,顯著提升粉體性能(如催化活性、電池安全性)。

  • 在線質譜監(jiān)測:集成殘余氣體分析儀(RGA),實時監(jiān)控反應進程,精準評估涂層質量,保障批次一致性 >95%。

  • 惰性環(huán)境兼容:支持氣動/真空惰性裝卸,確保空氣敏感材料(如金屬粉、含能材料)的安全處理,滿足“粉體表面致密鈍化"的嚴苛要求。

  • 靈活升級擴展:可擴展至 8 種前驅體通道,支持高壓還原、正壓 ALD 等工藝升級,適應多場景研發(fā)需求。

 

01.技術優(yōu)勢:定義行業(yè)標(biao)桿

 

  • 大批量公斤級流化床 ALD 系統(tǒng):大容量流化床反應器,結合振動與高剪切射流技術,解決粉末團聚難題,實現超均勻包覆。

  • 400℃ 高溫工藝:行業(yè)最高工藝溫度,覆蓋從鋰電材料到高溫催化劑的全場景需求。

  • 自動化與智能化:HMI人機界面支持配方化操作與遠程監(jiān)控,降低人工依賴,提升工藝復現性。

  • 綠色制造:內置活性氧化鋁尾氣過濾系統(tǒng),減少前驅體逸散,符合嚴苛環(huán)保標準。

 

02.賦能原子制造,引(ying)領行業(yè)應用

 

Prometheus XL系統(tǒng)已成功應用于多個前沿領域,成為原子級制造技術落地的核心裝備:

 

  • 新能源材料:為鋰電正極材料包覆納米氧化鋁涂層,提升循環(huán)壽命與熱穩(wěn)定性,已用于 6K Energy 千噸級 NCM 811 產品線以及 Forge Battery 的美國本土電池 1GWh 項目中。

  • 高效催化:與美國國家實驗室合作,開發(fā)Pd/Al?O? 催化劑,高溫下抗燒結性能提升300%,推動芳烴氫化工藝革新。

  • 粉末冶金/磁性粉:通過包覆改善金屬粉體流動性,推動 3D 打印技術突破。通過絕緣層包覆,改善磁性材料絕緣性和耐高壓性能。



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